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Fortschrittliche Verpackungsanlagen
Created with Pixso. ±10μm Genauigkeit Wafer-Level Underfill Flussdispensiersystem für fortschrittliche Verpackungsanlagen

±10μm Genauigkeit Wafer-Level Underfill Flussdispensiersystem für fortschrittliche Verpackungsanlagen

Markenname: Mingseal
Modellnummer: GS600SW
MOQ: 1
Preis: $28000-$150000 / pcs
Lieferzeit: 5 bis 60 Tage
Zahlungsbedingungen: Akkreditiv, Dokumenteninkasso, Dokument gegen Zahlung, Überweisung, Western Union
Einzelheiten
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO CE
Stromspannung:
110V/220V
Anwendungsfelder:
RDL First WLP, CUFA -Einführung
Kamerapixel:
130W
Garantie:
1 Jahr
Verpackung Informationen:
Holzgehäuse
Hervorheben:

±10μm Wafer-Level Underfill Präzision

,

12-Zoll-Wafer-Fluss-Jetting

,

130W Vision-Ausrichtungssystem

Produkt-Beschreibung

Der GS600SW Wafer-Level Underfill Dispenser ist das Flaggschiff-Dispensiermodul von Mingseal, das für die nächste Generation von Wafer-Level-Packaging (WLP) und fortschrittlichen Redistribution Layer (RDL) Prozessenentwickelt wurde. Er wurde für hochkomplexe Underfill- und Flussmittelsprühvorgänge entwickelt und ist ideal für Fan-Out Wafer-Level Packaging (FoWLP), CoWoS und FoPoP-Anwendungen, bei denen ultrahohe Präzision und Prozesskonsistenz unerlässlich sind.

Ausgestattet mit einer hochstabilen Linearmotortransmission, einer präzisen schraubengetriebenen Z-Achse und einem voll integrierten Vision-Alignmentsystem gewährleistet der GS600SW eine punktgenaue Platzierung und Pfadkontrolle im Mikrometerbereich. Sein robuster Wafer-Chuck-Tisch liefert eine außergewöhnliche Ebenheit und Temperaturuniformität— entscheidend für eine blasenfreie Underfill-Leistung.

Zusätzlich zur Underfill-Dispersion kann der GS600SW mit einem optionalen Sprühventilmodul konfiguriert werden, um Flussmittel oder Klebstoffe gleichmäßig auf Waferoberflächen aufzutragen, was die Prozessflexibilität für Hersteller erhöht, die mit mehrstufigen Flip-Chip- oder RDL-Packaging-Linien arbeiten.

Kernvorteile

  • Optimiert für 8- und 12-Zoll-Wafer

    Unterstützt Standard-200-mm- und 300-mm-Wafer mit verstellbarem Chuck-Tisch und Wafer-Kassettenoptionen.

  • Bereit für Dual-Prozesse: Underfill + Flussmittelsprühen

    Das optionale Sprühventilmodul erweitert die Fähigkeit zur Handhabung von Flussmittelbeschichtungen oder Vorlöt-Klebstoffprozessen.

  • Präzise Wafer-Temperaturregelung

    Der fortschrittliche Vakuum-Chuck-Tisch mit gleichmäßiger Heizung und Echtzeit-Feedback sorgt für einen stabilen Materialfluss und eine blasenfreie Befüllung.

  • Ultrafeine Punktgenauigkeit

    Die X/Y-Positionierungsgenauigkeit von ±10μm und die Z-Achsen-Wiederholgenauigkeit von ±5μm liefern konsistente Ergebnisse für RDL-First-Strukturen.

 

Typische Anwendungen


✔ RDL First Fan-Out WLP
✔ CoWoS (Chip-on-Wafer-on-Substrate)
✔ FoPoP (Fan-Out Package-on-Package)
✔ Wafer-Level Underfill
✔ Wafer-Level Flussmittelsprühen
✔ Halbleiter-Flip-Chip-Packaging
✔ Redistribution Layer Klebstoffbeschichtung

Technische Spezifikationen

 

Reinheitsgrad

Reinheit des Arbeitsbereichs

Klasse 100 (Klasse 1000 Werkstatt);

Klasse 10 (Klasse 100 Werkstatt)

Anwendungsbereich

Wafer-Konfiguration

φ200±0,5mm/φ300±0,5mm (Standardversion unterstützt nur 12 Zoll)

Wafer-Dicke

300~25500 μm

Max. zulässige Wafer-Verwölbung

5 mm (abhängig von der Finger-Modellauswahl)

Max. Wafer-Gewicht

600 g (abhängig von der Finger-Modellauswahl)

Unterstützter Wafer-Box-Typ

8-Zoll-Offene Kassette/ 12-Zoll-Foup (Standardversion unterstützt nur 12 Zoll)

Jetting-System

Transmissionssystem

 X/Y: Linearmotor

Z: Servomotor & Schraubenmodul

Wiederholgenauigkeit (3 Sigma)

X/Y:±3 μ m Z:±5 μ m

Positionierungsgenauigkeit (3 Sigma)

X/Y:±10 μ m

Max. Geschwindigkeit

X/Y:1000mm/s Z: 500mm/s

Max. Beschleunigung

X/Y:1g Z: 0,5g

Visuelles System

Pixel

130W

Identifikationsgenauigkeit

±1 Pixel

Identifikationsbereich

10*12mm

Lichtquelle

Rot, Grün, Weiß kombiniertes Licht + zusätzliche rote Beleuchtung

Wiegekalibrierung System

Wiegegenauigkeit

0,01mg

Chuck-Tisch

Vakuum-Saug-Ebenheit Abweichung

≤30μ m

Heiztemperaturabweichung

±1,5℃

Wiederholgenauigkeit der Hubhöhe

±10μ m

Vakuum-Saugdruck

-85~-70KPa (einstellbar)

Allgemeine Bedingungen

Grundfläche B× T × H

3075*2200*2200mm (Display-Bildschirm ausgeklappt)

Gewicht

2900kg

Leistung

16,5KW

Betriebsumgebungstemperatur

23℃±3℃

Betriebsumgebungsfeuchtigkeit

30-70%

Auswahlhilfe

Bestätigen Sie bei der Auswahl eines Wafer-Level Underfill Dispensers zuerst Ihre Wafergröße – 8 Zoll (200 mm) oder 12 Zoll (300 mm) –, da der Chuck-Tisch und der Kassetten-Typ übereinstimmen müssen. Bewerten Sie die erforderliche Positionierungsgenauigkeit: Für RDL-First- oder Fine-Pitch-Bump-Strukturen ist eine X/Y-Genauigkeit von ±10 μm entscheidend. Prüfen Sie, ob Ihr Prozess nur Underfill oder sowohl Underfill als auch Flussmittelsprühen benötigt; eine Maschine mit Doppelkapazität reduziert den Platzbedarf und die Kosten. Überprüfen Sie auch die Kompatibilität mit Reinräumen – Klasse 100 oder Klasse 10 Arbeitsbereich – und die Gleichmäßigkeit der Temperaturregelung (±1,5 °C), wenn Sie mit temperaturempfindlichen Materialien arbeiten.

Funktionsweise

Der GS600SW funktioniert, indem Wafer über eine 8-Zoll-Offenkassette oder eine 12-Zoll-FOUP in den Vakuum-Chuck-Tisch geladen werden. Das Vision-System führt eine automatische Ausrichtung mittels 130-W-Pixelerkennung durch, dann positioniert die linear motorgetriebene X/Y-Bühne den Dispenskopf mit einer Genauigkeit von ±10 μm. Das Underfill-Material wird über ein präzises schraubengetriebenes Z-Achsen-Modul aufgesprüht, wobei eine Echtzeit-Temperaturrückmeldung vom beheizten Chuck einen gleichmäßigen Fluss gewährleistet. Für Flussmittelanwendungen trägt das optionale Sprühventilmodul eine gleichmäßige Beschichtung auf. Nach dem Dispensieren verifiziert das Wiegekalibrierungssystem (Genauigkeit 0,01 mg) das Ablagevolumen, bevor der Wafer entladen wird.

FAQ

F1: Welche einzigartigen Wafer-Level-Anwendungen zielt der GS600SW an?

A: Er ist für RDL-First-Fan-Out-WLP-, CoWoS- und FoPoP-Prozesse konzipiert, bei denen sowohl eine feine Underfill-Kontrolle als auch ein Flussmittelsprühen erforderlich sind.

F2: Wie handhabt er Wafergröße und -verzug?

A: Er unterstützt Standard-8-Zoll- und 12-Zoll-Wafer mit Dicken bis zu 25.500 μm und einer Verzugstoleranz von bis zu 5 mm, mit flexibler Waferbox-Kompatibilität.

F3: Kann er in vollautomatische Linien integriert werden?

A: Absolut. Er kann mit dem PC101EFEM von Mingseal für vollautomatische Waferhandhabung, Vorabgleich und AMHS-Roboterandockung arbeiten.

F4: Warum Mingseal für Wafer-Level-Dispensing wählen?

A: Mit jahrelanger Erfahrung im Bereich Halbleiter-Underfill und Flüssigkeitsdispensierung liefert Mingseal zuverlässige Geräte, die Präzisionsmechanik, stabile Steuerung und Reinraumkonformität integrieren – und Fabriken helfen, die nächste Stufe der Ausbeute und Kosteneffizienz zu erreichen.


Schlussfolgerung


Mingseal ist ein vertrauenswürdiger Lieferant von Inline- und Wafer-Level-Dispensing-Lösungen für globale Halbleiter- und fortschrittliche Verpackungshersteller. Von Underfill bis zur Flussmittelbeschichtung helfen unsere modularen Systeme, intelligente Steuerung und stabiles Design unseren Partnern, fehlerfreie Produkte für die Märkte 5G, High-Performance Computing und KI-Chips zu liefern.