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Fortschrittliche Verpackungsanlagen
Created with Pixso. 130W Advanced Packaging Machine Wafer Level Underfill Flux Jetting Machine

130W Advanced Packaging Machine Wafer Level Underfill Flux Jetting Machine

Markenname: Mingseal
Modellnummer: GS600SW
MOQ: 1
Preis: $28000-$150000 / pcs
Lieferzeit: 5 bis 60 Tage
Zahlungsbedingungen: Akkreditiv, Dokumenteninkasso, Dokument gegen Zahlung, Überweisung, Western Union
Einzelheiten
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO CE
Spannung:
110V/220V
Anwendungsbereiche:
RDL First WLP, CUFA -Einführung
Kamera-Pixel:
130 W
Garantie:
1 Jahr
Verpackung Informationen:
Holzgehäuse
Hervorheben:

130w auto dispensing machine

,

130 Watt fortgeschrittene Verpackungsanlage

,

underfill auto dispensing machine

Produkt-Beschreibung

Erweiterte Verpackungsmaschine zur Unterfüllung und Flussstrahlung

 

Der GS600SW Wafer-Level Underfill Dispenser ist Mingseal's Flaggschiff-Disponierungsmodul für die nächste GenerationVerpackung auf Waferebene (WLP) und fortgeschrittene Umverteilungsschicht (RDL)Es ist für hochkomplexe Unterfüll- und Flusssprühvorgänge ausgelegt und eignet sich hervorragend für Fan-Out Wafer-Level Packaging (FoWLP), CoWoS,und FoPoP-Anwendungen, bei denen eine hohe Präzision und Prozesskonsistenz erforderlich sind.

Ausgestattet mit einem hochstabilen linearen Motorgetriebe, einer präzisen schraubgetriebenen Z-Achse und einem voll integrierten Sichtrichtungssystem,Die GS600SW sorgt für die Punktplatzierung und Pfadsteuerung auf MikronebeneSein robuster Wafer-Tischbietet eine außergewöhnliche Planarität und Temperaturgleichheit¢kritisch für die leere Unterfüllleistung.

Zusätzlich zur Unterfüllung kann der GS600SW mit einem optionalen Sprühventilmodul konfiguriert werden, um Fluss oder Klebstoffe gleichmäßig auf die Waferoberfläche aufzutragen,Erhöhung der Prozessflexibilität für Hersteller, die sich mit mehrstufigen Flip-Chip- oder RDL-Verpackungslinien befassen.

 

 

Hauptvorteile

 

  • Optimiert für 8-Zoll- und 12-Zoll-Wafer

    Unterstützt standardmäßige 200 mm und 300 mm Wafer mit verstellbarem Schlagtisch und Waferkassettenoptionen.

  • Zweifacher Prozess bereit: Unterfüllung + Flusssprühen

    Optionales Sprühventilmodul erweitert die Fähigkeit zur Handhabung von Flussbeschichtungs- oder Vorlöseaufhängungsprozessen.

  • Präzise Temperaturkontrolle der Wafer

    Ein fortschrittlicher Vakuum-Rolltisch mit gleichmäßiger Heizung und Echtzeit-Feedback sorgt für einen stabilen Materialfluss und eine leere Füllung.

  • Ultrafeine Punktgenauigkeit

    X/Y-Positionierungsgenauigkeit innerhalb von ±10 μm und Z-Achsenwiederholbarkeit von ±5 μm liefern konsistente Ergebnisse für RDL First-Strukturen.

 


Typische Anwendungen


✔ RDL Erste Fan-Out-WLP
✔ CoWoS (Chip-on-Wafer-on-Substrat)
✔ FoPoP (Fan-Out Package-on-Package)
✔ Unterfüllung auf Waferebene
✔ Flussbesprühungen auf Waferebene
✔ Halbleiter-Flip-Chip-Verpackungen
✔ Umverteilungsschicht

 


Technische Spezifikation

 

Reinheitsgrad

Sauberkeit des Arbeitsbereichs

Klasse 100 (Werkstatt der Klasse 1000 );

Klasse 10 (Werkstatt der Klasse 100)

Anwendungsbereich

Waferkonfiguration

φ200±0,5mm/φ300±0,5mm (Standardversion unterstützt nur 12-Zoll)

Waferdicke

300 bis 25500 μm

Max. Akzeptable Wafer Warp

5 mm (nach Auswahl des Fingermodells)

Max. Wafergewicht

600 g (abhängig von der Auswahl des Finger-Modells)

Unterstützte Wafer-Box-Typ

8-Zoll-Offene Kassette/ 12-Zoll-Foup (Standardversion unterstützt nur 12-Zoll)

Jetting-System

Übertragungssystem

X/Y: Linearmotor

Z: Servomotor und Schraubmodul

Wiederholbarkeit (3sigma)

X/Y: ±3 μm Z: ±5 μm

Positionierungsgenauigkeit (3sigma)

X/Y: ± 10 μ m

Max. Geschwindigkeit

X/Y:1000mm/s Z: 500mm/s

Max. Beschleunigung

X/Y:1g Z: 0,5g

Bildverarbeitung

Pixel

130 W

Genauigkeit erkennen

± 1 Pixel

Identifizieren Sie den Bereich

10*12 mm

Lichtressource

Rot, Grün, Weiß kombiniertes Licht + zusätzliche rote Beleuchtung

GewichtungskalibrierungSystem

Genaue Gewichte

00,01 mg

Chuck Tisch

VakuumsuctionsflächeAbweichung

≤ 30Schnittstellen

Abweichung der Heiztemperatur

± 1,5°C

Wiederholbarkeit der Hebhöhe

± 10Schnittstellen

Druck der Vakuumsuction

-85 ~ 70 KPa (Einstellbar)

Allgemeiner Zustand

Fußabdruck W × D × H

3075*2200*2200mm (Dist ein Bildschirmspiegel)

Gewicht

2900 kg

Macht

16.5 kW

Betriebsumgebungstemperatur

23°C ± 3°C

Betrieb Umgebungsfeuchtigkeit

30 bis 70%

 

 

Häufig gestellte Fragen

 

F1: Welche einzigartigen Wafer-Anwendungen zielt der GS600SW an?
A: Es ist für RDL First Fan-Out WLP, CoWoS und FoPoP-Prozesse entwickelt, bei denen sowohl eine feine Unterfüllkontrolle als auch ein Flusssprühen erforderlich sind.

 

F2: Wie verhält es sich mit Wafergröße und Warp?
A: Es unterstützt standardmäßige 8- und 12-Zoll-Wafer mit einer Dicke von bis zu 25.500 μm und einer Warp-Toleranz von bis zu 5 mm, mit flexibler Waferbox-Kompatibilität.

 

F3: Kann es in vollautomatisierte Leitungen integriert werden?
A: Absolut. Es kann mit Mingseal's PC101EFEM für den vollständigen automatischen Wafer-Handling, die Vorbereitung und das Anlegen von AMHS-Robotern arbeiten.

 

F4: Warum wählen Sie Mingseal für die Wafer-Level-Ausgabe?
A: Mit jahrelanger Erfahrung in der Halbleiterunterfüllung und Flüssigkeitsverteilung liefert Mingseal zuverlässige Geräte, die Präzisionsmechanik, stabile Steuerung,und Cleanroom-Konformität•Fabriken helfen, eine höhere Produktivität und Kosteneffizienz zu erreichen.

 


Schlussfolgerung


Mingseal ist ein zuverlässiger Anbieter von Inline- und Wafer-Level-Disponierlösungen für globale Halbleiter- und fortschrittliche Verpackungshersteller.intelligente Steuerung, und ein stabiles Design helfen unseren Partnern, fehlerfreie Produkte für 5G, Hochleistungsrechner und KI-Chip-Märkte zu liefern.